外观
认识存储芯片
存储芯片可分为RAM(随机存储器,易失性存储器)和ROM(只读存储器,非易失性存储器)两大类。
1 RAM
RAM(Random Access Memory)随机存储器,也称主存/内存,特点是随机存储,读写访问速度快,断电后保存的数据会消失。主要包含DRAM(动态随机存储器)和SRAM(静态随机存储器)。
(1)DRAM
DRAM是动态随机存取存储器,可随时读写且速度很快,常用于存储正在运行的程序和数据,也就是运行内存,系统一断电,所存储的数据会全部丢失,因此不能用于长期存储。其中,按技术标准和用途可以分为同步DRAM(如DDR、LPDDR、GDDR)和异步DRAM(已淘汰)。
①DDR
DDR的规范名称应该为DDR SDRAM,是通用型标准DRAM,从SDR SDRAM发展而来,常设计为系统主存,多用于PC电脑、服务器的内存条中。
- SDRAM
SDR SDRAM是最原始的同步DRAM,特指第一代同步动态随机存储器(SDRAM),采用时钟频率来命名,如PC100,表示时钟频率为100MHz,数据读/写速率也为100MHz。其核心特点常用单端时钟信号,每个时钟周期只在上升沿传输一次数据,而DDR SDRAM在时钟上升沿和下降沿均传输数据,已完全被DDR所取代。
- DDR1
DDR1是指第1代DDR(2n Prefetch,n为I/O接口宽度,Prefetc为预存位数,即控制器预先读取或写入2倍于基本位宽的数据量),其核心内部在时钟预存准备2位数据,在上升沿和下降沿各传输1位。
DDR2
DDR2为第2代DDR(4n Prefetch),其核心内部在时钟预存准备4位数据,在上升沿和下降沿各传输2位。
DDR3
DDR3为第3代DDR(8n Prefetch),其核心内部在时钟预存准备8位数据,在上升沿和下降沿各传输4位。
DDR4
DDR4为第4代DDR(8n Prefetch,采用Bank Group架构,将内存Bank分组,如4组×4Banks,支持并行访问,提升带宽利用率,使其效率更高),其核心内部在时钟预存准备8位数据,在上升沿和下降沿各传输4位。
DDR5
DDR5为第5代DDR(16n Prefetch,采用双通道设计,将每个内存模块内部分为两个独立通道,如32位×2,提升并行效率),其核心内部在时钟预存准备16位数据,在上升沿和下降沿各传输8位。
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DDR的基本原理可查看“一个人一支队伍”公众号 https://mp.weixin.qq.com/s/R_VybK-SrC8-JrCUF3kk9w 如有侵权请联系删除。
历代DDR内存性能参数对比表:
特性 | DDR1 | DDR2 | DDR3 | DDR4 | DDR5 |
---|---|---|---|---|---|
发布年份(年) | 2000 | 2003 | 2007 | 2014 | 2020 |
标准工作电压(V) | 2.5 | 1.8 | 1.5 | 1.2 | 1.1 |
核心频率(MHz) | 133~200 | 133~200 | 133~200 | 133~200 | 133~200 |
时钟频率(MHz) | 133~200 | 266~400 | 533~800 | 1066~3200 | 1600~3200 |
数据传输速率(MT/s) | 266~400 | 533~800 | 1066~1600 | 2133~3200 | 3200~6400 |
总带宽(GB/s) | 2.1~3.2 | 4.2~6.4 | 8.5~12.8 | 17~25.6 | 25.6~51.2 |
预存(Prefetch)位数 | 2n | 4n | 8n | 8n(Bank Group架构) | 16n(双通道) |
关键创新 | 双倍数据速率、2位预存机制 | ODT片内终结电阻、OCD片外驱动调校 | Bank分组 | Bank Group架构 | 双通道设计、PMIC集成 |
技术标准 | JESD79E | JESD79-2E、JESD208 | JESD79-3C | JESD79-4 | JESD79-5 |
- DDR的更多技术标准详情,可访问JEDEC固态技术协会官网查看:https://www.jedec.org
②LPDDR
LPDDR为低功耗型内存,是DDR内存的一种低功耗版本,以低功耗和小体积著称。专为移动设备设计,可以提供更窄的通道宽度和低功耗运行状态,多应用于移动式便携设备(如手机、平板电脑、智能手表等设备中)。
LPDDR内存的工作电压对比表:
特性 | LDDR1 | LDDR2 | LDDR3 | LDDR4 | LDDR4X | LDDR5 |
---|---|---|---|---|---|---|
工作电压(V) | 1.8 | 1.2 | 1.2 | 1.1 | 0.6 | 1.05 |
LPDDR4X可以看作是LPDDR4的省电优化版本,比LPDDR4功耗更低、更省电。
可以优先选择LPDDR的厂商有SAMSUNG(三星)、Micron(镁光)、Hynix(海力士)、长鑫(国产)等。
下面介绍各厂商LPDDR的命名规则,以方便快速掌握选项技巧。
SAMSUNG(三星)K4F6E3S4HM-MGCJ
- K4:代表三星的移动内存DRAM
- F:类型为LPDDR4 SDRAM
- 6E:容量为16G,8K/32ms
- 3S:位宽,数据通道宽度为x32位
- 4:Bank数为8Bank
- H:接口电平要求,VDD1,VDD2,VDDQ,接高电平LVSTL_11,1.8V/1.1V/1.1V
- M:代数说明,第1代
- M:封装,200-FBGA(10×15)
- G:温度和功率,-25℃~85℃(标准)
- CJ:性能,0.536ns@RL32,tRCD18ns, tRP18ns
Micron(镁光)MT53E512M32D1ZW-046 WT:B
- MT:镁光科技缩写
- 53:产品系列:53 = 移动LPDDR4 SDRAM
- E:工作电压:E = 1.10V VDD2/0.60V VDDQ or 1.10V VDDQ
- 512M32:存储配置信息:512M为容量,32为位宽,512M32 = 512 Meg x 32;1G32 = 1 Gig x 32;
- D1:寻址位数:D1 = LPDDR4, 1 die;D2 = LPDDR4, 2 die;
- ZW:封装方式:ZW = 200-ball TFBGA 10 x 14.5 x 1.05mm (Ø0.40 SMD)
- -046:时序参数:-046为468ps,tCK RL = 36/40
- WT:工作温度:WT = –25°C to +85°C;IT = –40°C to +95°C
- :B:设计版本
Hynix(海力士)H9HCNNNBKUMLXR-NEX
- H:SK海力士半导体
- 9:FBGA产品线
- HC:生产模式LPDDR4
- NN:NVM:没有
- N:NVM:没有
- BK:容量,堆叠方式,通道数,CS信号:16Gb, DDP, 2Ch 1CS
- U:I/O工作电压和配置参数:1.1v,16位, LPDDR4
- M:代数:第1代
- LX:封装类型:FBGA 200 Ball
- R:包装材料:无铅和无卤
- N:NAND闪存速率:没有
- E:DRAM速率
- X:工作温度
长鑫(国产)CXDB4CBAM-MK-A
- CX:长鑫缩写
- D:产品系列为DRAM
- B:产品类型为LPDDR4/4X(VDD2/VDDQ:1.1/1.1&0.6V)
- 4:产品容量为2GB
- C:封装类型为200-ball FBGA
- B:存储配置信息,32位,2通道,1CS
- A:晶元堆叠,DDP
- M:包装材料,无卤和无铅(符合ROHS标准)
- M:工作温度,商业温度(-25°C~85 °C)
- K:时钟频率,3733Mbps
- A:产品版本,第2版
③GDDR
GDDR为图形型内存,即显存,专为显卡设计,以满足图形处理对高带宽和高速度的需求。GDDR分为普通GDDR平面结构和HBM 3D堆叠结构,GDDR平面结构更适合图形处理和游戏场景,而HBM 3D堆叠结构更适合AI训练和推理等需要大容量数据并行处理的应用场景。
(2)SRAM
SRAM是静态随机存取存储器,读写速度非常快,成本也高,一般用于高速缓存使用,数据在断电时会丢失,但在供电时不会像DRAM那样需要动态刷新,因此称为“静态”存储器。
2 ROM
ROM(Read Only Memory)只读存储器,也称闪存/外存,特点是断电保持的数据不受影响,可以长期保存数据。主要包含PROM(可编程只读存储器),MROM(掩模式只读存储器)和Flash(可清除程序化只读存储器,闪存)。
(1)PROM
PROM是可编程ROM,也叫一次性编程ROM,只能写入一次数据,且无法擦除修改,这种是早期的产品,现在已经不使用了。
①EPROM
EPROM是可擦除编程ROM,通常采用单总线与MCU连接,通过紫外线照射才能够擦除数据,需要专用编程器和紫外线设备,仅支持整片擦除,无法单独修改部分数据,耗时较长,需要拆卸且操作较为复杂。
ADI(亚德诺)“DS2502P”实物图 | 符号&封装图 |
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②EEPROM
EEPROM是带电可擦除编程ROM,通常采用IIC与MCU连接,通过施加特定电压直接接电擦除,可直接在电路板上操作,允许按字节擦写,灵活性更高,无需要拆卸。
HXY MOSFET(华轩阳电子)“AT24C02”实物图 | 符号&封装图 |
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(2)Flash
Flash是一种非易失性存储器,又称闪存,其核心特性包括断电后数据不丢失、支持多次擦写且具有块级操作特性,是EEPROM的改进产品,根据存储架构和应用场景的不同,主要分为NOR Flash和NAND Flash两大类。
①NOR Flash
NOR Flash是基于Flash芯片的NOR结构生产而成的,核心特性是非易失,断电后数据和程序可长期保存。不能单字节擦除数据,采用块擦除技术,每次擦除会将整个块内的所有位重置为默认状态。通常采用SPI通信协议与MCU连接。
Winbond(华邦)“W25Q64JVSSIQ”实物图 | 符号&封装图 |
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②NAND Flash
NAND Flash是基于Flash芯片的NAND结构生产而成的,核心特性是非易失,断电后数据和程序可长期保存。写入、擦除速度快,以块为单位进行操作,速度优于NOR Flash,存储密度也远高于NOR Flash,适合大容量存储场景(U盘,闪存卡,SSD固态硬盘等),嵌入式存储包含eMMC、UFS等。通常采用SPI通信协议与MCU连接。
GigaDevice(兆易创新)“GD5F1GQ5REYIGR”实物图 | 符号&封装图 |
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